PRODUCTS製品案内
真空ロータリーキルンVACUUM ROTARY KILN
大気遮断された真空下で1,000℃の連続焼成が可能なロータリーキルン
- 高温真空下で、材料を流動させながら加熱や脱ガス操作が可能。
- 真空以外に、大気遮断したガス雰囲気で材料の加熱反応装置として対応。
標準対応
- バッチ連続
- 空冷
- 雰囲気
- 真空
- インバータ
可変速 - 加熱
- 新規設計
製品概要
高温かつ真空やガス雰囲気下で、原料を流動させながら反応処理が可能な装置です。
ロータリーキルン本体と、真空ポンプユニット及びガス供給ユニットから構成されます。キルンには、弊社で独自開発した耐熱大口径の回転真空シール機構を採用し 1000℃, 1Paの環境において、大気遮断された状態でレトルトを回転させることが可能です。原料缶はダブルダンパーを介して、キルンに接続されています。
●レトルト回転によって原料が流動するため、均一な伝熱と脱ガスが行われます。
静置反応と比較して、品質の均一化や短時間で反応が完了などの特徴が有ります。
●大気遮断での粉体操作につき、バッチ連続方式で操業します。
処理後の製品は、大気暴露する事なく密閉容器で回収が可能です。
●対象原料や処理目的によって、設計対応致します。
*弊社本社工場にテスト機を常設しており、実機の仕様検討テストが可能です。
【構造図】 複数の加熱ヒーターはブロック毎にPID制御されます。ヒーターを貫通するレトルト内にはスパイラルやリフターが配置されます。レトルト両端には投入・排出フードが固定され貫通部で真空シールを行います。フードに真空排気などのポートが設置されます。
【Φ300真空RK】 レトルト径Φ300×3,500Lの真空キルンです。左側奧には置換室と材料供給ホッパが配置されています。焼成材料は右手前の回収缶に排出されます。缶上部のダブルダンパーを切り離し、真空を保持したまま材料回収が可能です。
オプション対応
■ 乾式 / ■ 湿式 / ■ 熱 / ■ ガス / ■ 材質
用途により、真空ポンプの選定が可能です。 到達真空は、メカニカルブースターポンプでは 1(Pa)、油拡散ポンプでは 10^-1(Pa)となります。 |
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目的に応じて、設計対応致します。 使用ガス(種類・流量)、到達真空、温度(昇温速度・使用温度)などをご提示下さい。 |
※上記オプション対応が可能です。各仕様は、別途詳細打ち合わせに基づき決定いたします。弊社営業までお問い合わせください。
シリーズ
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型式 |
処理能力 (m3/h) |
電動機 (kw) |
到達真空 (Pa) |
外形寸法 (mm) |
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機長L |
機幅W |
全高H |
||||
VCRK-400 |
0.5 |
0.75 | 1 | 6,800 | 950 | 2,500 |
●レトルト:Φ400×4,600L 材質:SUS310S 回転数:1〜15min^-1 ●温度制御:加熱 / Max1,000℃ 80kw 電熱ヒータ,昇温Max300℃/h ●対応圧力:到達真空1(Pa) 真空ポンプ / メカニカルブースタポンプ ●ホッパー:置換室/材料供給 各有効容積30L ●付帯装置:真空対応バッグフィルター 冷却ブロワー 回収缶 |
※本シリーズは、目的に応じた都度設計となります。ご要望に応じ、様々な仕様に対応いたします。
※上記型式以外にも各種ラインアップを揃えています。