PRODUCTS製品案内
多目的水素ロータリーキルンMULTIPLE HYDROGEN ROTARY KILN
原料を流動させながら、水素ガス雰囲気や真空での高温反応操作、金属変性処理に対応した多目的ロータリーキルン
標準対応
- バッチ連続
- 空冷
- 雰囲気
- 真空(RP+MBP)
- 加熱
特許取得済み:高温対応回転真空シール
製品概要
高温かつ真空・水素ガスなどの特殊な雰囲気下で、原料を流動させながら反応処理が可能な装置です。
ロータリーキルン本体と、真空ポンプユニット及びガス供給ユニットから構成されます。キルンには、弊社で独自開発した耐熱大口径の回転真空シール機構を採用し 1000℃, 1Paの環境において、大気遮断された状態でレトルトを回転させることが可能です。原料缶はダブルダンパーを介して、キルンに接続されています。
●レトルト回転によって原料が流動するため、均一な伝熱とガス接触・脱ガスが行われます。
静置反応と比較して、品質の均一化や短時間で反応が完了などの特徴が有ります。
●大気遮断での粉体操作につき、バッチ連続方式で操業します。
処理後の製品は、大気暴露する事なく密閉容器で回収が可能です。
●対象原料や処理目的によって、設計対応致します。
*弊社本社工場にテスト機を常設しており、実機の仕様検討テストが可能です。
- 1. スクロール式や油拡散ポンプなどにも対応可能。ポンプ保護の別置き真空バッグフィルターも付属。
- 2. 市販7m3ガスボンベを用いたガス供給制御装置。各種ガスやマスフロー制御に対応。
- 3. 点検窓から目視したレトルト内部。(800℃,1Pa)運転中の粉挙動が確認出来ます。
- 4. レトルト外面に冷却水をシャワーし、強制冷却することでガス反応を促進。(テスト向改造)
- 5. 希土類合金材料は、大気中のO2と反応し激しい酸化発熱を起こします。(Nd磁性材など)
【処理フロー例】
フロー図のように、真空・ガス雰囲気(圧力/流量)・温度(加熱/冷却)を複合的に制御して反応処理や金属変成操作が可能です。タッチパネルから、各パラメーターを任意に設定したり複数の制御パターン登録することが可能です。運転中のデータは、USBメモリに記録されCSV形式で出力されます。
参考フローの運転区分として、
・真空排気工程では、大気圧からの減圧とガス導入復圧の繰返しによる残留O2排除。
・加熱工程では、ヒーター昇温と連動した反応ガスの導入及びレトルト内圧制御。
・冷却工程では、ヒーター停止と強制空冷によるレトルト冷却及びガスの置換制御。
となります。これらの動作パターンは、対象材料に応じて任意に設定が可能です。
用途
電子素材
窒化や酸化処理。
金属素材
水素脆性による粉体生成。
オプション対応
■ 乾式 / ■ 湿式 / ■ 熱 / ■ ガス / ■ 材質
用途により、真空ポンプの選定が可能です。 到達真空は、メカニカルブースターポンプでは 1(Pa)、油拡散ポンプでは 10^-1(Pa)となります。 |
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目的に応じて、設計対応致します。 使用ガス(種類・流量)、到達真空、温度(昇温速度・使用温度)などをご提示下さい。 |
※上記オプション対応が可能です。各仕様は、別途詳細打ち合わせに基づき決定いたします。弊社営業までお問い合わせください。
シリーズ
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型式 |
有効容積 (L/b) |
電動機 (kw) |
到達真空 (Pa) |
外形寸法 (mm) |
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機長L |
機幅W |
全高H |
||||
MHRK-03065 |
10/b |
0.75 | 1 | 2,600 | 900 | 1,700 |
●レトルト:Φ280×1,940L 材質:SUS310S 回転数:0.5〜10min-1 ●温度制御:加熱 / Max1,000℃ 8kw 電熱ヒータ,昇温Max400℃/h 冷却 / Max500℃/h ●対応圧力:到達真空1Pa〜加圧:850Pa 真空ポンプ / メカニカルブースタポンプ ●対応ガス:H2 N2 Ar 他 ●冷却能力:水冷+空冷 ブロワ40m3/min 1.5kw |
※本シリーズは、目的に応じた都度設計となります。ご要望に応じ、様々な仕様に対応いたします。
※上記型式以外にも各種ラインアップを揃えています。