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高周波誘導加熱キルン



高周波誘導加熱キルン


高周波誘導加熱キルン
特徴

材料を供給・加熱する円筒(レトルト)は材料接触部・発熱部・保温層の3重クラッド構造となっています。レトルト外周に設けられた誘導コイルに高周波電圧をかける事で、レトルトは電磁誘導により渦電流を発生し抵抗熱で自己発熱を行います。

  • 渦電流抵抗熱によりレトルトが自己発熱する為、レスポンスが早い。
  • ブロック化された高周波誘導コイルにより、精密なヒートカーブ設定が可能。
  • 1次側ユーティリティ設備や設置スペースが少ない。
標準対応
乾式処理を対象とする機器です。乾式対応製品
連続処理を対象とする機器です。連続処理
 	インバータ可変速 インバータ可変速
オプション対応
目的粒子径に応じた分級や整粒が可能です。分級
接粉部に各種材質(耐摩耗、セラミック等)のライニングや溶射等の表面処理が可能です。ライニング
各種ガス雰囲気で対象材料の処理が可能です。雰囲気
※上記オプション対応が可能です。各仕様は、別途詳細打ち合わせに基づき決定致します。弊社営業マンにお問い合わせ下さい。
試験機対応可
印刷画面
仕様・シリーズ
型式 熱量
(kcal/h)
電力
(kw)
処理能力
(kg/h)
レトルト寸法(mm)
内径φ 全長L
RFK-50 43,000 50 50 320 3,500
RFK-100 84,280 98 100 423 4,700
RFK-145 124,700 145 150 520 5,600
※上記型式以外にも各種ラインアップを揃えています。
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